RF 플라즈마 전원장치

RF 기술은 높은 정확도와 반복 재현성이 필요한 공정에 적합한 기술입니다. 피에스텍의 RF 플라즈마 전원장치는 장시간 안정적인 동작과 높은 matching 정밀도가 보장된 제품으로 향상된 생산성과 최고 품질의 결과물을 얻으실 수 있습니다.

RF 플라즈마 전원장치 1

특징 및 장점

Auto matching
  • 높은 Matching 정밀도
  • 정밀한 Matching을 위해 최적의 알고리즘 적용
장시간 동작 안정성
  • 고신뢰성 캐패시터를 적용하여 장시간 동작 안정성 확보
넓은 부하 범위
  • 다양한 부하 특성에 적합한 Matching solution 구성
플라즈마 밀도값 확인 가능
  • DC bias 값 정밀 센싱 구성
RF Generator
  • 장시간 동작 안정성
  • 실부하 동작 안정성 테스트로 안정성 검증
  • 다수의 RF를 동일한 챔버에 적용 가능
  • 출력 Phase shift 기능 포함, CEX 기능 포함
경제적인 가격
  • 타사 대비 저렴한 가격으로 투자비 절감 가능

적용 분야

반도체, 디스플레이, 코팅 공정의 플라즈마 장비에 적용됩니다.

적용 제품 분야

반도체: Dry Etching (ICP, CCP), Cleaning, Deposition (PVD, PECVD, PEALD)디스플레이: Deposition (PVD, PECVD)일반 산업: 자동차 부품(액세서리), 공구류, 기계류, 핸드폰 케이스 하드 코팅, 광학 필름류 코팅의료용 부품

제품 사양

구분항목사양 / Specification
출력출력 범위150~6000W
부하 임피던스50Ω
주파수13.56MHz ±0.005%
입력전압3상 220V
주파수50/60Hz ±5%
전류12.9A
기계요소무게20kg
크기 (W×D×H)241×603×155mm
냉각방식Forced Air
통신아날로그0-5V, 0-10V
디지털RS485, RS232C
프로토콜Modbus, CAN, Profibus(Option), Device-Net(Option)
보호/기타보호OVP, OCP, Arc Rate, OTP
연결 타입N type female

제품 문의

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